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        EDI超纯水设备是如何去除水中杂质的?
      1. 发布日期:2022-02-22      浏览次数:109
        •   水中含有大量杂质,只有去除水中的杂质,才能用于对水纯度要求高的行业。EDI超纯水设备可以去除水中的各种杂质,超纯水系统处理后的水可以满足电子行业的需求,实验室等高标准用水,因此可以通过超纯水设备去除其中的杂质。
            超纯水设备去除杂质
            1.溶解无机盐
            EDI超纯水设备有钠、钙、镁等盐类,溶于水形成正离子。当含有这些离子的水冲洗半导体器件时,这些杂质会扩散到集成电路表面,造成短路。过去是用蒸馏水去除水中的无机盐,现在是三重蒸馏水。水的电阻率只有3兆欧-厘米,而且水中仍然含有大于01ppm的NaCl。最近,反渗透去离子很有用,所以使用离子交换树脂,阳离子交换脂和阴离子交换树脂分开使用,易于再生,混床离子交换树脂用于离子交换的最后阶段,起到看门人的作用。这种水可以达到18兆欧厘米(25摄氏度)。
            2.溶解有机物
            有工业废物、洗涤剂、可生物降解产品和微生物代谢物,这些可以通过活性炭吸附法去除,炭床要放在离子交换树脂之前,因为活性炭本身会带杂质。必须注意的是,进入树脂床的水首先要除去有机物,因为离子交换树脂很容易被有机物(如腐殖酸)污染。反渗透可以去除分子量大于300的有机物,分子量小于300的有机物可以去除90%。
            3.颗粒物
            EDI超纯水设备在很多地方容易生产,如碳床、树脂床、深度过滤等设备。虽然使用了一些方法来实现高电阻率,但颗粒物并没有被有效去除,这会导致半导体器件中出现针孔、短路、开路、内部击穿和光刻胶脱落等缺陷。为了去除颗粒物,仅使用膜过滤,一般采用孔径为0.45微米的微孔滤膜作为标准,对于特殊需要,采用孔径为0.22微米的微孔滤膜去除胶体铁、胶体硅和小细菌,反渗透还可以去除小颗粒。
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